盛美上海诉江苏芯梦及前员工蒋某某侵害其公司清洗技术商业秘密

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在市场竞争如此激烈的今天,商业秘密已成为企业发展壮大过程中不可忽略的重要因素,无数的例子证明,侵犯商业秘密会给企业带来巨大损失,对于资金密集、技术密集的半导体企业而言更是如此。

据集微网获悉,2023年10月,盛美上海向江苏省苏州市中级人民法院提起诉讼,起诉前研发人员蒋某某及江苏芯梦半导体设备有限公司侵害其商业秘密,要求被告停止侵害商业秘密的行为并赔偿经济损失,目前该案正在审理中。

盛美上海成立于2005年,主营业务为半导体清洗设备的研发、设计、制造和销售,是上海市政府科教兴市项目重点引进的集成电路装备企业,是国内半导体清洗设备领域的龙头企业之一。据了解,该公司自成立之初就高度重视知识产权和人才队伍建设,在知识产权方面,盛美上海通过自主研发,建立了较为完善的知识产权体系,凭借丰富的技术和工艺积累以及差异化自主创新发展战略,持续开拓新产品、新技术,自主研发的SAPS/TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗等技术,是国内鲜有的拥有全球技术的设备生产厂商之一。旗下拥有自主知识产权的产品包括:单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备及PECVD设备等;在人才队伍建设方面,盛美上海在创业伊始就招聘了一批国内外知名高校的优秀应届毕业生,此后不断发掘更多优秀人才,并给予这些人才优厚的工作待遇(包括合理工资及股票期权)和重要岗位。

正是由于源源不断的投入,盛美上海目前已经拥有数百件专利以及众多的技术秘密,形成对其创新成果的协同保护,盛美上海也得以在半导体设备市场脱颖而出。后续案件进展如何,集微网也将持续关注。

(校对/刘昕炜)

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