11亿元!拓荆科技拟投资建设高端半导体设备产业化基地

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3月1日,拓荆科技股份有限公司(下文简称“拓荆科技”)发布公告称,公司基于整体战略布局及经营发展的需要,为加快产能规划及产业布局,拟投资建设“高端半导体设备产业化基地建设项目”。

据公告披露,该项目由拓荆科技及其子公司拓荆创益共同实施,拟在沈阳市浑南区购置土地建设新的产业化基地,包括千级生产洁净间、立体库房、测试实验室等。该产业化基地建成后,将进一步提高其的产能,以支撑PECVD、SACVD、HDPCVD 等高端半导体设备产品未来的产业化需求,从而推动公司业务规模的持续增长,提升公司整体竞争力和盈利能力。

公告显示,此次建设新项目,出于两点考虑:

一是符合国家发展战略,巩固公司行业地位;

二是有利于公司把握市场需求,抓住市场机遇。

项目投资规模:项目总投资额约为人民币 110,000.00 万元,其中拓荆科技投资金额约为人民币 38,000.00 万元,拓荆创益投资金额约为人民币 72,000.00 万 元。

项目资金来源:拓荆科技拟调减首发募投项目“先进半导体设备的技术研发与改进项目”募集资金承诺投资总额人民币 20,000.00 万元,同时调减超募资金投资项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”的募集资金承诺投资总额人民币 5,000.00 万元,并将上述调减的募集资金合计人民币 25,000.00 万元投入本项目,其余项目资金人民币 85,000.00 万元由拓荆科技及拓荆创益自筹。(校对/韩秀荣)

责编: 韩秀荣
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